TF lab 4040 系列 非接觸式單點薄層測試儀

TF lab 4040 系列 非接觸式單點薄層測試儀

TF lab 4040 系列專用于介質尺寸的襯底的非接觸單點測量。靈活適用的臺式設備允許根據其設置對面電阻、金屬厚度、光學透明度或電（非）各向同性進行精確的手動測量。最常見的應用包括測量薄導電透明和非透明層、晶片或金屬片。

優勢

非接觸式、實時、穩健

準確且可重復的測量

高測量質量，不受以下因素影響：

均勻的接觸質量

鈍化/封裝

粗糙度

對敏感層無傷害

精確測量

傳統導電薄膜

網格和線結構

多層系統

隱藏和封裝的導電層

不穿

用于系統質量保證的軟件指導手動映射

多種測量數據保存和導出功能

節省空間的智能顯示器集成（用于每個觸摸屏的測量和數據評估）

使用客戶程序的軟件開發套件測試自動化

測量

技術：非接觸式渦流（各種傳感器類型）

單點測量

定位區域：760 mm x 660 (open) mm

推薦的樣品尺寸：10 x 10 mm² 到 400 x 400 mm²（0.5 x 0.5 英寸到 16 x 16 英寸）

參數：

薄層電阻 0.1 mOhm/sq 至 100 kOhm/sq

金屬層厚度 1 nm 至 2 mm（其他應要求提供）

光學透明度 0.01 – 100 %

電各向異性 0.33 - 3

軟件和設備控制

非常人性化的軟件

直觀的觸摸顯示導航

根據設置實時測量薄層電阻、層厚度和光學透明度

軟件輔助手動映射選項

各種數據保存和導出選項

電阻測試儀參數

測量技術	非接觸式渦流傳感器
基材	箔、玻璃、晶片等
基板面積	29.5“ x 25.6” / 750 毫米 x 650 毫米（400 毫米 x 400 毫米樣品）
最大限度。樣品厚度/傳感器間隙	3 / 5 / 10 / 25 毫米（由最厚的樣品定義）
金屬薄膜（例如銅）的厚度測量范圍	2 nm – 2 mm（根據面電阻 ）
設備尺寸 (w/h/d)	30“ x 12” x 26“ / 760 毫米 x 310 毫米 x 660 毫米
重量	20公斤
更多可用功能	薄層電阻測量、金屬厚度測試儀、各向異性傳感器、透光率、反射率、霧度
	VLSR	LSR	MSR	HSR	VHSR
范圍 [歐姆/平方]	0.0001 – 0.1	0.1 – 10	0.1 – 100	10 – 2000	1,000 – 200,000
精度/偏差			± 1%	± 1 – 3%	± 3 – 5%
重復性 (2σ)			< 0.3%	< 0.5%	< 0.3%

* VLSR - 極低薄層電阻，LSR - 低薄層電阻，MSR - 中等薄層電阻，HSR - 高薄層電阻，VHSR - 極高薄層電阻

升級測試

薄層電阻測試儀 （Ohm/sq、OPS、Ohm per square）

金屬層厚度測試儀 (nm, µm, mil)

混合系統：光學和電氣傳感的組合 –（薄層電阻 + 光學透射率、反射率和漫透射率）

各向異性和薄層電阻測試儀 (MD/TD)

濕涂層厚度和殘留水分 – HF 

<<data_sheet_eddycus_tf_lab_4040sr.pdf>><<data_sheet_eddycus_tf_lab_4040hs.pdf>>